的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜，只能用特殊的反射镜来对焦，这样EUV的能量损失会很大，需要更长的曝光时间，会严重影响生产速度，这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机，20年内量产无望。”
“你确定？”
“我十分确定一定以及肯定。我了解到的信息是荷兰阿斯麦公司会联合花旗国的几家企业攻坚EUV这个难题，不带咱们玩，当然，他们也不代表日系厂商玩。尼康和佳能会死磕157nm光刻机，这个是死路一条，等到他们衰落下去了咱们可以联合他们在国内建厂，吸收他们的技术以后，再一起研发EUV光刻机，7nm以下的制程，DUV光刻机就不行了。”
“等等，你说DUV光刻不能达到7nm以下？那你的意思是说DUV光刻能突破65nm，甚至28nm、14nm直至7nm？”
“不错，能，甚至14nm，7nm都可以，但比较麻烦。”
“怎么做？你怎么研究的？”
“怎么研究的你就别管了。我接下来说的话你谁都不能说，包括在网络上，你看我特意找你办公室来聊，连icq都不用，你就知道问题的严重性了。”
“有必要这么谨慎吗？”
“当然有必要啦。此前，芯片制造工艺的更新换代是以3年为一个周期，但Intel率先将这个周期缩短为2年。Intel公司在1995年实现了0.35微米工艺量产，1997年他们会推出0.25微米产品，1999年就是0.18微米工艺，到了2001年则实现0.13微米产品的量产。英特尔在忠实地践行着摩尔定律啊。”
“两年一个更新换代，这是要弄死AMD啊。”
“这才好啊，这样咱们就可以拉拢AMD，对抗intel了啊。不过呢，这只可能是一个幻想罢了，英特尔、AMD和微软之间肯定是有默契的，他们会联合起来搞死其他所有人，然后他们自己再慢慢玩，但英特尔和AMD谁也不会被玩死，否则他们就涉嫌垄断了。”
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